サイト名称 日立ハイテク

アプリケーション：薄膜FP法を用いためっき被膜中の成分分析

タイトル 薄膜FP法を用いためっき被膜中の成分分析
詳細リンク XRF No.113
概要 無電解ニッケル（Ni-P）めっき、鉛（Pb）フリーはんだは薄膜めっきとして様々な製品で使用されます。Ni-Pめっきではめっき浴中に安定剤としてPbが用いられ、また、Pbフリーはんだめっきでも不純物としてPbがわずかながら含有されること（0.1wt%以下）があります。そのため、RoHS指令で規制されているPb等について、被膜中の濃度が規制値を超過していないか管理する必要があります。本報ではNi-PめっきとPbフリーはんだめっき被膜中のPb等の濃度及び厚さを分析した事例を紹介します。
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製品中分類 蛍光X線分析装置（XRF）
研究大分野 ・材料
・エネルギー
研究中分野 ・金属・磁性材料
・半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明
・電気
・電池
情報種別 テクニカルレポート
発行日 2021/02/25
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No. XRF No.113