サイト名称 日立ハイテク

アプリケーション：EA1000AⅢ/VXによるめっき皮膜の膜厚測定

タイトル EA1000AⅢ/VXによるめっき皮膜の膜厚測定
詳細リンク XRF No.102
概要 蛍光X線分析法は、RoHS指令対応を目的に対象元素含有量のスクリーニング分析で活用されています。測定対象となる電子部品は、さまざまな表面処理されているものが含まれます。これらの蛍光X線分析は環境規制物質の測定に加え、めっき皮膜の膜厚測定ニーズがあり、Znめっきおよびフレキシブル基板のAu,Niめっき膜の膜厚測定例を紹介します。
関連リンク（製品）
製品中分類 蛍光X線分析装置（XRF）
研究大分野 ・材料
・エネルギー
研究中分野 ・金属・磁性材料
・半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明
・電気
・電池
情報種別 テクニカルレポート
発行日 2016/09/01
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No. XRF No.102