タイトル	FT9500におけるリン青銅上のNi、Sn膜厚測定
詳細リンク	XRF No.23
概要	Snの蛍光X線の分析線をK線からL線に変更する事で、基板素材のSnは下地めっきのNiによって吸収されるため、表層のSn膜厚測定に影響しにくくなります。その結果、従来の膜厚計では困難であった薄膜中のSnの測定が高精度化しました。
製品中分類	膜厚測定装置
研究大分野	・材料・エネルギー
研究中分野	・金属・磁性材料・半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明・電気・電池
情報種別	テクニカルレポート
発行日	2010/04/01
お問い合わせ先	お問い合わせはこちら
No.	XRF No.23

タイトル

FT9500におけるリン青銅上のNi、Sn膜厚測定

詳細リンク

XRF No.23

概要

Snの蛍光X線の分析線をK線からL線に変更する事で、基板素材のSnは下地めっきのNiによって吸収されるため、表層のSn膜厚測定に影響しにくくなります。その結果、従来の膜厚計では困難であった薄膜中のSnの測定が高精度化しました。

製品中分類

膜厚測定装置

研究大分野

・材料
・エネルギー

研究中分野

・金属・磁性材料
・半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明
・電気
・電池

情報種別

テクニカルレポート

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2010/04/01

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アプリケーション：FT9500におけるリン青銅上のNi、Sn膜厚測定