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極薄膜Au/Pdめっきの高精度測定事例
アプリケーション:極薄膜Au/Pdめっきの高精度測定事例
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極薄膜Au/Pdめっきの高精度測定事例
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XRF No.14
概要
X線発生部に集光光学系(ポリキャピラリ)を採用して、一次X線の高密度化を実現しました。
検出器には高分解能・高計数率の半導体検出器を採用しました。
電子冷却タイプの半導体検出器であるため、液化窒素の補充が一切不要です。
nmオーダーのめっき膜厚測定にも非破壊・非接触で対応可能です。
製品中分類
膜厚測定装置
研究大分野
・材料
・化学・化成品
研究中分野
・金属・磁性材料
・半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明
・石油化学品
・高分子・タイヤ・ゴム
情報種別
テクニカルレポート
発行日
2009/07/01
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No.
XRF No.14
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これより先のページは、日本国内の医療関係者の方を対象に日立ハイテク製品に関する情報を提供することを目的としています。
一般の方および日本国外の医療関係者への情報提供を目的としたものではありませんのでご了承ください。