| 概要 |
近年、半導体やナノテク材料の電子顕微鏡解析において、試料作製の高速化の要求が高まってきています。そこで今回、集束イオンビーム（FIB：Focused ion beam）加工観察装置を用いた、マイクロサンプリング所要時間の短縮化を目的として試料作製条件の最適化について検討しましたので、その方法を紹介します。
なお、マイクロサンプリング法の詳細についてはテクニカルデータ（FIB SHEET No.12）をご参照ください。
キーワード：FIB加工装置,マイクロサンプリング法,高速FIB加工,Wデポジション,スキャン方向,Dwell Time,半導体解析 |
