| 概要 |
SEMは、分解能の高い立体的な像を比較的簡便に得られることから、様々な分野で研究開発やプロセス評価用ツールとして活用されています。
しかし、SEMの倍率は最大±10%程度の誤差を含むとされているため、微細構造の絶対寸法を正確に把握することはSEMの黎明期から半導体微細加工プロセス評価用SEM（測長SEM）が普及した現在に至るまでの課題であり、寸法校正のための信頼性の高い微小寸法標準の開発が切望されてきました。
HJ-1000形日立標準マイクロスケールは、この要求に応えるべくSEM用絶対微小寸法標準試料として製品化されたものです。
キーワード：高精度寸法測定,標準試料,寸法校正,レーザ干渉露光,異方性エッチング |
