サイト名称 日立ハイテク

タイトル HF-2000+GIFによるSiデバイスのONO膜観察(5,416KB)
詳細リンク tem093
概要 試料を透過した電子線は、試料を構成する元素特有値のエネルギーを損失しています。
そのため、透過電子をエネルギー分光し、ある特定のエネルギーを持った電子線だけを結像すると、元素分布を反映した元素組成像を得ることが出来ます。これをイメージングEELS法と呼びます。イメージングEELS法は、検出感度が高く、特に軽元素の感度が高いことを特徴としています。今回は、集積化が進む半導体デバイス中の絶縁膜の組成像観察に、イメージングEELS法を応用した例を紹介します。

キーワード:電界放出電子顕微鏡,GIF,EELS,組成像観察,半導体デバイス,集束イオンビーム
製品中分類 透過電子顕微鏡(TEM/STEM)
研究大分野 ・材料
・エネルギー
研究中分野 ・セラミックス・ガラス・鉱物・バイオミネラル
・金属・磁性材料
・半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明
・ナノ材料・触媒・電池材料・複合材料・膜結晶
・電気
・電池
情報種別 テクニカルデータ/データシート
発行日 2011/12/02
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No. tem093