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シリコン基板に発生した転位の電子チャネリングコントラスト像
アプリケーション:シリコン基板に発生した転位の電子チャネリングコントラスト像
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タイトル
シリコン基板に発生した転位の電子チャネリングコントラスト像
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HTD-SEM-151
概要
SU5000の電子線傾斜照射機能は、試料に照射する電子線を一点に固定して角度走査でき、結晶性試料の電子チャネリングパターン(ECP)を取得できます。ECPは、材料結晶面の実格子を反映した疑似菊池パターンを示していることが知られています。一方、結晶性試料に電子線が入射された際、結晶組織の方位により反射電子信号の放出量が異なります。この結晶組織の方位の違いに起因するコントラストを利用した像が電子チャネリングコントラスト像(ECCI)で、結晶材料の転位が観察できます。
関連リンク(製品)
ショットキー走査電子顕微鏡 SU5000
製品中分類
電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM)
研究大分野
材料
研究中分野
半導体材料・デバイス・電子部品・ディスプレイ・照明
情報種別
テクニカルデータ/データシート
発行日
2021/03/16
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No.
HTD-SEM-151
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