サイト名称 日立ハイテク

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5 nm以降の先端デバイス解析に対応した、SEMベースのナノ・プロービング専用機です。
電子光学系をはじめとした改良により、従来装置に比べより安定して電気特性測定およびEBAC解析を実施する事が可能であり、不良箇所をnmオーダーまで絞り込むことが可能です。

価格:お問い合わせください

取扱会社:株式会社 日立ハイテク

概要

  • 新型ショットキー電子銃による100 Vまでの低加速観察能力
  • 大照射電流によるEBAC像質の向上
  • 8探針対応
  • 温度依存特性評価用の高低温ステージ
  • 探針粗寄せ用の上・横CCDカメラ
  • 探針から独立して駆動できる試料サブ・ステージ
  • 専用探針交換室
  • EBAC(電子線吸収電流像測定)機能
  • DI-EBAC(電圧印加型EBAC機能)
  • パルス評価機能(特注対応)

5 nmデバイスへのプロービング時のリアルタイムSEM像(加速電圧0.2 kV)
5 nmデバイスへのプロービング時のリアルタイムSEM像(加速電圧0.2 kV)

プロービングのイメージ
プロービングのイメージ

特長

プローバの位置制御やSEM観察をコントロール可能な集約されたGUI
プローブのアプローチをより確かにするTop view/Side viewを同時に表示

SEM像とEBAC像を同時に表示
より迅速な欠陥箇所発見へのアプローチ

ショットキー電子銃による大照射電流と改良された電圧印加EBACアンプにより、従来では難しかった低抵抗欠陥も可視化

プローブアプローチ時の試料損傷低減に有効な低加速電圧観察能力
100 V/8万倍(ライブ像)
試料:5 nm SRAM

仕様

項目内容
プローブユニットユニット数(探針数)8
駆動方式ピエゾ素子使用
微動範囲5 µm(X、Y軸)
粗動範囲3 mm(X軸)、5 mm(Y軸)
試料ステージ/
ベースステージ
試料サイズ15 mm×15 mm、厚1 mm以下
移動ポジション測定位置、試料交換位置、探針交換位置
試料交換/探針交換予備排気室付き
プローバプローブ位置へのステージ移動
ナビゲーション測定位置記憶
探針粗調整CCD像表示機能横方向/上方向からの観察像表示
電子光学系電子銃ショットキー形電子銃
加速電圧0.1~30 kV
イメージシフト±75 µm以上(1.0 kV、WD=5 mm)
EBACアンプ/
画像表示
アンプ種Currentアンプ/Differentialアンプ/DIアンプ
画像表示SEM像/EBAC像
単独/並列/重ね合わせ表示
画像処理白黒反転表示、カラー表示機能、明るさ調整、スロースキャン積算、ベルトスキャン