5 nm以降の先端デバイス解析に対応した、SEMベースのナノ・プロービング専用機です。電子光学系をはじめとした改良により、従来装置に比べより安定して電気特性測定およびEBAC解析を実施する事が可能であり、不良箇所をnmオーダーまで絞り込むことが可能です。価格:お問い合わせください取扱会社:株式会社 日立ハイテク
5 nm以降の先端デバイス解析に対応した、SEMベースのナノ・プロービング専用機です。電子光学系をはじめとした改良により、従来装置に比べより安定して電気特性測定およびEBAC解析を実施する事が可能であり、不良箇所をnmオーダーまで絞り込むことが可能です。
価格:お問い合わせください
取扱会社:株式会社 日立ハイテク
5 nmデバイスへのプロービング時のリアルタイムSEM像(加速電圧0.2 kV)
プロービングのイメージ
プローバの位置制御やSEM観察をコントロール可能な集約されたGUIプローブのアプローチをより確かにするTop view/Side viewを同時に表示
SEM像とEBAC像を同時に表示より迅速な欠陥箇所発見へのアプローチ
ショットキー電子銃による大照射電流と改良された電圧印加EBACアンプにより、従来では難しかった低抵抗欠陥も可視化
プローブアプローチ時の試料損傷低減に有効な低加速電圧観察能力100 V/8万倍(ライブ像)試料:5 nm SRAM
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